留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

球面元件表面AlF3薄膜的光学特性和微观结构表征

时光 梅林 张立超

时光, 梅林, 张立超. 球面元件表面AlF3薄膜的光学特性和微观结构表征[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 906-911. doi: 10.3788/CO.20130606.906
引用本文: 时光, 梅林, 张立超. 球面元件表面AlF3薄膜的光学特性和微观结构表征[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 906-911. doi: 10.3788/CO.20130606.906
SHI Guang, MEI Lin, ZHANG Li-chao. Characterization of optical and microstructural properties of AlF3 thin films deposited on spherical element[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 906-911. doi: 10.3788/CO.20130606.906
Citation: SHI Guang, MEI Lin, ZHANG Li-chao. Characterization of optical and microstructural properties of AlF3 thin films deposited on spherical element[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 906-911. doi: 10.3788/CO.20130606.906

球面元件表面AlF3薄膜的光学特性和微观结构表征

基金项目: 

国家重大科技专项(02专项)基金资助项目(No.2009ZX02205)

详细信息
    作者简介:

    时光(1985-),女,黑龙江鸡西人,硕士,助理研究员,2008年、2011年于电子科技大学分别获得学士、硕士学位,主要从事深紫外薄膜方面的研究。E-mail:nrconnie@163.com

    通讯作者:

    时光

  • 中图分类号: O484.41

Characterization of optical and microstructural properties of AlF3 thin films deposited on spherical element

  • 摘要: 在模拟球面元件曲率半径的仿面形夹具上镀制了AlF3单层薄膜,并对不同口径位置上的薄膜进行了比较,以表征球面元件表面镀制薄膜的光学特性和微观结构。首先,采用紫外可见光分光光度计测量了不同口径位置上薄膜样品的透射和反射光谱,反演得出AlF3的折射率和消光系数。然后,使用原子力显微镜观察了样品的表面形貌和表面粗糙度。最后,使用X射线衍射仪对薄膜的内部结构进行了表征。实验结果表明:在球面不同位置镀制的AlF3单层薄膜样品的光学损耗随着所在位置口径的增大而增大。口径为280 mm处的消光系数是中心位置处消光系数的1.8倍,表面粗糙度是中心位置的17.7倍。因此,球面元件需要考虑由蒸汽入射角不同带来的光学损耗的差异。

     

  • [1] DETLEV R,STEFAN G,SALVADOR B,et al..Ultraviolet optical and microstructural properties of MgF2 and LaF3 coatings deposited by ion-beam sputtering and boat and electron- beam evaporation[J]. Appl. Opt.,2002,41(16):3196-3204. [2] LIAO B H,LI C C. Antireflection coatings for deep ultraviolet optics deposited by magnetron sputtering from Al targets[J]. Optics Express,2011,19(8):7507-7512. [3] SUN J,LI X,ZHANG W L,et al.. Laser-induced damage resistant of AlF3 films[J]. SPIE,2013,8786:278620-1-5. [4] SUN J,LI X,ZHANG W L,et al.. Effects of substrate temperatures and deposition rates on properties of aluminum fluoride thin films in deep-ultraviolet region[J]. Appl. Opt.,2012,51(35):8481-8489. [5] HUANG L C,JIN C H,PAUL W W,et al.. AlF3 film deposited by IAD with end-Hall ion source using SF6 as working gas[J]. Appl. Surface Sci.,2009,156:1232-1235. [6] LEE C C,LIAO B H,LIU M C. Developing new manufacturing methods for the improvement of AlF3 thin films[J]. Optics Express,2008,16(10):6904-6909. [7] 唐晋发,顾培夫,刘旭,等.现代光学薄膜技术[M]. 浙江:浙江大学出版社,2006. TANG J F,GU P F,LIU X,et al.. Modern Optical Thin Film Technology[M]. Zhejiang:Zhejiang University Press,2006.(in Chinese) [8] GUO C,KONG M D,LIN D W,et al.. Microstructure-related properties of magnesium fluoride films at 193nm by oblique-angle deposition[J].Optics Express,2013,21(1):960-967. [9] LIU C D,KONG M D,GUO C,et al.. Theoretical design of shadowing masks for uniform coatings on spherical substrates in planetary rotation systems[J].Optics Express,2012,20(21):23790-23791. [10] 常艳贺,金春水,李春,等. 热蒸发紫外LaF3薄膜光学常数的表征[J]. 中国激光,2012,39(8):0807002-1-4. CHANG Y H,JIN C SH,LI CH,et al.. Characterization of optical constants of ultraviolet LaF3 films by thermal evaporation[J]. Chinese J. Lasers,2012,39(8):0807002-1-4.(in Chinese) [11] 郭春,林大伟,张云洞,等. 光度法确定LaF3薄膜光学常数[J]. 光学学报,2011,31(7):0731001-1-7. GUO C,LIN D W,ZHANG Y D,et al..Determination of optical constants of LaF3 Films from spectrophotometric measurements[J]. Acta Optica Sinica,2011,31(7):0731001-1-7.(in Chinese) [12] 张立超,高劲松. 长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展[J]. 光学 精密工程,2012,20(11):2395-2401. ZHANG L CH,GAO J S. Developments of DUV coating technologies in CIOMP[J]. Opt. Precision Eng.,2012,20(11):2395-2401.(in Chinese)
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2427
  • HTML全文浏览量:  273
  • PDF下载量:  507
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2013-09-12
  • 修回日期:  2013-11-15
  • 刊出日期:  2013-12-10

目录

    /

    返回文章
    返回