留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

特定折射率材料及光学薄膜制备

申振峰

申振峰. 特定折射率材料及光学薄膜制备[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
引用本文: 申振峰. 特定折射率材料及光学薄膜制备[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
SHEN Zhen-feng. Preparation of specific refractive index material and optical thin films[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
Citation: SHEN Zhen-feng. Preparation of specific refractive index material and optical thin films[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900

特定折射率材料及光学薄膜制备

基金项目: 

科技部国际合作资助项目(No. 2010DFR10720)

详细信息
    作者简介:

    申振峰(1977-),男,吉林省吉林市人,博士,副研究员,2000年于东北师范大学获得学士学位,2009年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事光学薄膜理论和制备以及SiC表面改性方面的研究。E-mail:zf_shen@163.com.cn

    通讯作者:

    申振峰

  • 中图分类号: O484.1

Preparation of specific refractive index material and optical thin films

  • 摘要: 根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要,应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示:用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率n=1.75,与优化设计所需数值相符;激光防护膜性能优良,太阳辐射能透过率提高6%以上,实现了对该激光防护膜性能的进一步优化。为了使该双源共蒸方法适于大面积薄膜的制备,应用均匀性挡板技术来提高该方法制备大面积薄膜的膜厚均匀性,使制备的掺杂材料薄膜在口径为400 mm时的不均匀性小于2.1%。该双源共蒸方法制备工艺简单、可靠,适于实际工程应用。薄膜性能测试结果与理论优化结果相符,达到预期优化目标。

     

  • [1] 麦克劳德.光学薄膜技术 [M].北京:国防工业出版社,1974. MACLEOD H A. Thin-film Optical Filters[M]. Beijing:National Defense Industry Press,1974.(in Chinese) [2] 唐晋发,顾培夫,刘旭,等.现代光学薄膜技术[M]. 杭州:浙江大学出版社,2006. TANG J F,GU P F,LIU X,et al.. Modern Optical Thin Film Technology[M]. Hangzhou:Zhejiang University Press,2006.(in Chinese) [3] 孙芳芳,贺蕴秋,李一鸣,等. 透明导电ZnO薄膜的电化学制备及性能研究[J]. 发光学报,2013,34(2):218-224. Sun F F,He Y Q,LI Y M,et al.. Transparent conductive properties of ZnO thin films prepared by electrochemical deposition[J]. Chinese J. Luminescence,2013,34(2):218-224.(in Chinese) [4] 刘邦武,钟思华,何静,等. 液相沉积法制备的二氧化硅薄膜及其钝化性能[J]. 发光学报,2012,33(11):1264-1267. LIU B W,ZHONG S H,HE J,et al.. SiO2 film synthesized by liquid phase deposition and its passivation performance[J]. Chinese J. Luminescence,2012,33(11):1264-1267.(in Chinese) [5] DONG Y,WANG P,NIE L F,et al.. Sol-gel preparation and up-conversion luminescence properties of Er3+, Yb3+ co-doped TiO2 films[J]. Chinese J. Luminescence,2012,33(2):1006-1011. [6] WANG X J,SONG H,LI D B,et al.. Deposition of AlN films on nitrided sapphire substrates by reactive DC magnetron sputtering[J]. Chinese J. Luminescence,2012,33(2):227-232. [7] TESFAMICHAEL T,MOTTA N,BOSTROM T,et al.. Development of porous metal oxide thin films by co-evaporation[J]. Appl. Surface Sci.,2007,253:4853-4859. [8] BARTHELEMY E,ALBERT S,VIGREUX C,et al.. Effect of composition on the properties of Te-Ge thick films deposited by co-thermal evaporation[J]. J. Non-Crystalline Solids,2010,356:2175-2180. [9] TSAI R Y, HUA M Y. Microstructural, optical, and mechanical properties of reactive electron-beam-coevaporated TiO2-MgF2 composite films[J]. Appl. Opt.,1996,35(25):5073-5079. [10] NIKLASSON G A,CRAIGHEAD H G. Optical properties of codeposited aluminum-silicon composite films[J]. Appl. Opt.,1983,22(8):1237-1240. [11] 宫大为,付秀华,耿似玉,等. 红外双波段激光滤光膜的研制[J]. 中国光学, 2011,4(3):293-298. GONG D W,FU X H,GENG S Y,et al.. Design and manufacture of infrared double waveband laser filter films[J]. Chinese Optics,2011,4(3):293-298.(in Chinese) [12] 贾洁,郑华,耿涛,等. PHEMT 欧姆接触的双源共蒸技术[J]. 电子与封装,2007,7(11):35-38. JIA J,ZHENG H,GENG T,et al.. The co-evaporation technology of ohmic contact in GaAs PHEMT[J]. Electronics Packaging,2007,7(11):35-38.(in Chinese) [13] 沈自才,王英剑,范正修,等. 线性共蒸法制备渐变折射率薄膜的光学特性分析[J]. 中国激光,2005,32(6):829-834. SHEN Z C,WANG Y J,FAN ZH X,et al.. Analysis of optical characteristics of gradient refractive index coatings prepared by linear co-evaporation[J]. Chinese J. Lasers,2005,32(6):829-834.(in Chinese) [14] 张立超,高劲松. 长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展[J]. 光学 精密工程,2012,20(11):2395-2401. ZHANG L CH,GAO J S. Developments of DUV coating technologies in CIOMP[J]. Opt. Precision Eng.,2012,20(11):2395-2401.(in Chinese) [15] 赵妙,周代兵,谭满清,等. 双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺[J]. 半导体学报,2006,27(9):1586-1589. ZHAO M,ZHOU D B,TAN M Q,et al.. Preparation of Si/SiO2 optical thin film by double source electron beam evaporation technology[J]. Chinese J. Semiconductors,2006,27(9):1586-1589.(in Chinese) [16] 宁晓阳,杭凌侠,郭峰,等. SiO2/TiO2变折射率光学薄膜制造技术研究[J]. 表面技术,2011,40(6):58-61. NIN X Y,HANG L X,GUO F,et al.. Research the deposition of SiO2/TiO2 nonlinear refractive-index optical thin films[J]. Surface Technology,2011,40(6):58-61.(in Chinese) [17] 卫耀伟,刘志超,陈松林. TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析[J]. 中国光学,2011,4(2):188-195. WEI Y W,LIU ZH CH,CHEN S L. Optical characteristics of TiO2/Al2O3 thin films and their atomic layer depositions[J]. Chinese Optics,2011,4(2):188-195.(in Chinese)
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2834
  • HTML全文浏览量:  662
  • PDF下载量:  844
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2013-09-13
  • 修回日期:  2013-11-16
  • 刊出日期:  2013-12-10

目录

    /

    返回文章
    返回